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業績案例

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真空鍍膜機

發布時間:2017-08-04

系統概述

真空鍍膜機主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。

常用于對半導體、光伏、電子、精密光學等行業的納米級表面處理。

系統原理

通過電子槍發射高壓電子轟擊坩埚中的待鍍靶材,使其在高真空下蒸發并沉積在被鍍基片上以獲得鍍膜。

系統配置

  • 自動化控制器: e-Control PLC,是控制系統的核心硬件平台。
  • 人機界面硬件: TPC1503工業級15寸觸摸式平闆電腦,穩定可靠。
  • 人機界面軟件: NETSCADA組态軟件開發平台,提供真空鍍膜機的控制和監視。

系統評價:

  • 提供多達99層一次成膜支援;
  • 自動倒幕翻轉,可實現雙面鍍膜
  • 支持Excle導入靶材、設備參數、工藝參數等
  • 支持電子槍像素點數量自定義控制,實現靶材的無縫隙加熱控制;
  • 針對不同加熱段,采用不同蒸鍍模式,保證熔料均溫的同時,保證熔料效率;
  • 一鍵式啟動,從啟動到生産結束隻需輕點一下鼠标,各種生産流程自動完成;
  • 批号式數據管理方案,實時自動保存生産信息,對生産數據有據可查;

網絡化方案,提供遠程組網端口,輕松實現遠程多系統集中控制